Koloidná litografia v spojení s elektrochemickou depozíciou predstavuje jednoduchú metódu na prípravu nanoštrukturovaných povrchov pre SERS aplikácie. Boli pripravené Ni nanoštrukturované povrchy s kavitami s rozličným priemerom (100, 300, 500, 700, a 900 nm), ktoré boli po odstránení koloidnej masky dekorované nanočasticami striebra. Homogenita dekorácie striebornými nanočasticami závisí od doby galvanostatického vylučovania. Taktiež bola študovaná závislosť zosilnenia analytického signálu od hrúbky Ni filmu. Najvyšší faktor zosilnenia dosahovali povrchy pripravené z 500 nm koloidnej masky s normalizovanou hrúbkou Ni~ 0,5 na ktoré bolo vylúčené striebro pri konštantnom prúde po dobu 200 s. Experimentálne výsledky boli potvrdené metódou FDTD. Faktor zosilnenia dosahoval hodnotu 1,078.10¹⁰ pre Rodamín 6G. ďalšou analýzou bola testovaná koncentračná závislosť v rozsahu koncentrácii od 1.10^-5 po 1.10^-12 mol.dm^-3 Rodamín 6G, kde koeficient R² dosahoval hodnotu 0,95. Na záver bola testovaná časová stabilita pripravených povrchov kde bolo preukázané  významné zosilnenie signálu po dobu 13tich týždňov.